磁控真空镀膜机做渐变色原理
现在很多物件都镀有渐变色，颜色很绚丽也很显目，现在很多牌子手机壳也应用了这种渐变色，渐变色也越来越受人们关注，渐变色制作原理也激起了大家的兴趣，今天至成小编为大家详细介绍一下真开工镀膜机做渐变色的原理和方法，希望能帮助到大家。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。而渐变色的工艺制法一般用的磁控溅射镀膜设备，目前华为、联想等多款手机渐变色外壳都采用了PVD真空渐变镀膜工艺。
磁控溅射真空镀膜设备是现有产品在真空条件下镀膜使用的多的一种设备，一台完整的磁控溅射真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能，从而实现Zui终的高品质镀膜，磁控溅射镀膜其组成包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵以及成膜控制系统等等。
磁控溅射真空镀膜机的主体是真空腔，真空腔大小是由加工产品所决定，磁控溅射镀膜的大小能定制，腔体一般是用不锈钢材料制作，要求结实耐用不生锈等。磁控溅射镀膜真空腔有许多连接阀用来连接各种辅助泵。
磁控溅射镀膜成膜控制系统能采用不同方式，比如固定镀制时间、目测、监控以及水晶震荡监控等。真空镀膜机、真空镀膜设备镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以溅射多种不同成分的材料。
磁控溅射法定义是什么？
磁控溅射法是在高真空充入适量的Ar气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使Ar气发生电离。Ar离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。
离子溅射镀膜机
多靶离子束溅射镀膜机系统在高精度光学薄膜沉积应用中处于较高地位。多靶离子束溅射镀膜机是当今仅存的在同一系统可互换使用行星型，简单旋转型或可翻转型基片装置的系统。
在通信应用上，能用于沉积高产值的200，100和50GHz具有窄通带,宽截止频带,高隔离度,低插损特性的DWDM滤波器，满足Zui为严格的性能指标。在其它高精度光学应用上，多靶离子束溅射镀膜机能用于沉积增透膜，复杂的非四分之一波长膜层，以及吸收和散射低于百万分位的超低损耗激光镜。
光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点：
一、渐变折射率结构薄膜技术与装备：
渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate无界面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除
了薄膜界面特征，(部分)消除界面效应，如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力学稳定性。
二、磁控溅射光学镀膜系统
以LeyboldHelios和ShincronRAS为代表，磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。
三、间歇式直接光控：
间歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系统为代表，光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以提高产品良率并减少了工艺调试时间。