离子镀膜机 至成镀膜机供应 PVD中频离子镀膜机

2019-09-26 16:46 1次
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PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理


厂家在采购PVD真空镀膜机时,商家都会培训PVD真空镀膜机的相关知识,如镀膜技术工艺步骤、原理、保养维护方法,机器的运行注意事项等等,今天至成小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。

PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤,分为以下四个步骤:

(1)清洗工件:接通直流电源,Ar气进行辉光放电为Ar离子,Ar离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;

(2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。

(3)镀料离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后,高速冲向工件;

(4)镀料原子、分子或离子在基体上沉积:工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

如果是镀离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能,高速轰击工件时,不但沉积速度快,能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,彼此粘附得特别牢。



真空镀膜机PVD镀膜常规知识介绍


真空镀膜机PVD技术可以应用到海上用品、首饰、工艺品、门窗五金、厨卫五金、灯具、海上用品、首饰、工艺品,及其它装饰性制品的加工制造,应用是非常的广泛,很多客户采购设备时,对这方面的相关知识也是非常的感兴趣,今天至成真空小编,为大家介绍一下真空镀膜机PVD镀膜常规知识,希望能帮助大家提升相关知识和技能。

PVD镀膜(离子镀膜)技术,其具体原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。


真空镀膜机PVD镀膜技术目前主要应用的行业,PVD镀膜技术的应用主要分为两大类:装饰镀膜和工具镀膜。装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命;这方面主要应用五金行业的各个领域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命;这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等)、各种五金工具(如螺丝刀、钳子等)、各种模具等产品中



至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机


至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机是研究超导、类金刚石、光学、磁性等高质量薄膜和材料表面改性的光机一体化的现代化镀膜设备。该机采用四靶、双离子源、离子源为考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正离子束或中性粒子轰击靶材料,使材料表面的原子和分子从母材中溅射出来,沉积在基片上成膜。可镀制任意材料,包括金属、合金、超导体、半导体、绝缘体等。该机采用80年代刚刚发展起来的离子束溅射技术,利用双离子源、主枪,对靶材轰击,辅枪在镀前对基片进行清洗,增强基片的活性,提高结合力及纯度。沉积过程中低能轰击膜,增强沉积原子表面扩散和迁移,减少薄膜结晶结的缺陷,并配有对基片处理的各种功能,如加热、冷却、旋转、激光处理、掩膜等。引出栅φ25mm离子能量,1500ev能量束流大于80mA。


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成立日期2011年06月16日
法定代表人李蔡华
注册资本100万人民币元
主营产品真空镀膜设备,中频离子镀膜设备,多弧离子镀膜设备等
经营范围研发、设计、生产、加工、销售:真空设备及其配件;货物及技术进出口。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)〓
公司简介东莞市至成真空科技有限公司服务于中国真空制造业各领域,我公司是一家专业真空应用及设备研发制造的高科技企业。经营有:真空镀膜设备、中频离子镀膜设备、多弧离子镀膜设备、真空电镀机、镀金真空电镀机、实验室专用镀膜机。东莞市至成真空科技有限公司拥有一批真空行业专家、工程师及售后服务人员。致力于真空设备的研发设计和提供完善的真空设备解决方案及售后服务。严格要求生产及管理,确保研发制造的产品安全、质优、可靠! ...
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