显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。总体上，在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。一部分晶圆会从上一步留下来问题而要停止工艺处理。这些晶圆在显影检验时会被拒绝接受并进行处理。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆；提供工艺性能和工艺控制数据；及分拣出需要重做的晶圆。
曝光时间可由光梯尺表等试验或供应商提供的条件进行和调整，一般应采用较大曝光量和较短时间曝光。对于采用低功率曝光机 无论是PCB多层线路板还是柔性线路板在制作线路图形时都要用到曝光成像与显影工艺技术。曝光时间的控制曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。曝光不足，南海手机壳曝光显影，抗蚀膜聚合不够，显影时胶膜溶胀、变软，线条不清晰，色泽暗淡，
清溪利成感光(图)-手机壳曝光显影加工-南海手机壳曝光显影由东莞市清溪利成感光五金厂提供。东莞市清溪利成感光五金厂是广东 东莞,树脂工艺品的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在利成感光领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创利成感光更加美好的未来。