现有的曝光机对基板的主体部分进行曝光，但是基板的边缘，特别是基板相对的两长边(在光阻涂布的起始端与末端位置)较容易形成光阻残留，从而导致后段部件所需要用到的对位图案被遮住，保温杯曝光显影工厂，造成基板报废。为了解决此问题，现在普遍的做法为在主体曝光完成后增加一个边缘曝光的工艺，其主要功用为防止静电的产生及后段框胶贴附的质量，另一个功用就是去除基板四周的不必要的残留。
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