采用溅射镀膜法,有着附着力好,温度低等特点,主要用于塑料,玻璃,金属工艺品等产品进行表面环保电镀处理的设备。本机采用静止电场,具有高附着力,高效率,低温沉积膜层等特点。能够对高熔点金属和半导体进行溅射,常用溅射靶材有钛靶,铬靶,铝靶,铜靶,不锈钢靶,钛铝靶,钯金,银,黄金,ITO靶等靶材进行真空低温离化得到附着力更牢的膜层。能够在金属、玻璃、塑胶、陶瓷等表面沉积纳米膜。
振华设备内部直径1.15米高度1.2米 上转架 9杆 双层不锈钢炉体
2台400扩散泵+阳光ZJP300罗茨泵+1台南光70无震动旋片泵
8个弧 30KW偏压1对中频 中频电源30KW,另预留一对中频孔位