f) 注塑缺陷如缩水﹑夹水纹﹑气纹﹑气泡等均会影响电镀外观质量﹐必须严格控制其程度﹐为此要求注塑时采用﹕
i> 充分的原料烘干
ii> 不使用脱模剂(尤其是类)
iii> 适当的注塑模温﹐较高料温
iv> 尽可能少加入或不加入水口料(减低材料中挥发物含量)
g) 若啤件有台阶或凹位﹐应预先设计必要的斜度过渡﹒
h) 如有盲孔﹐应设计孔深不超过孔径一半﹐否则对孔底镀层应不作要求.
i) 如有“V”形槽﹐要求其宽度与深度比应大于3﹒
电镀工艺的分类与流程说明
真空镀钛是当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），pvd真空电镀，大约有5%会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。随着工业化生产的不断细分，新工艺新材料的不断涌现，在实际产品中得到应用的设计效果也日新月异，真空镀钛是我们在设计中经常要涉及到的一种工艺，寮步真空电镀，而真空镀钛效果是我们使用时间较长，工艺也较为成熟的一种效果，对于这种工艺的应用在我们的产品上已经非常多。
镀镍一般应用于连接件的制作，特别是全光亮镀镍，不仅是良好的装饰性镀层，真空电镀厂家，而且是贵i金属电镀中不可缺少的扩散阻挡层，是非常好的中间体连接件镀层。而镀银则多应用于移动通信设备中的微波器件，这类产品与波传导的性能有关，所以采用导电性的银镀层。
这些镀种常见的，也是在电子电镀的应用中为广泛的，此外还有很多特殊的镀种。
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